春意盎然，智慧同行。在众多信息通信知识产权界专家、IPR、律师朋友的关心与支持下，第二届知产前沿信息通信论坛（IFIF 2024）于2024年3月13日在上海龙之梦大酒店圆满闭幕。

此次活动由 YIP Events & 知产前沿新媒体 & 合规Plus 联合主办，两天的大会及半天的会前研讨会以“通信领域SEP治理的实践及探索”为主题。

在3月12日的论坛上，华润微电子有限公司法务总监王为明为本次大会带来“集成电路布图设计专有权法律保护”主题演讲。知产前沿现将王老师的现场主题发言内容整理成文，供知识产权业内人士参考学习。

目次

一、集成电路布图由来

二、集成电路布图保护现状

三、集成电路布图侵权案件裁判要点

四、案例分析总结

2023年4月，国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中，改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要助力芯片产业做大做强，服务数字经济更好发展。加强大数据、人智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究，助力相关领域新发展。同时，积极参与知识产权国际规则制定，更好对接高标准际经贸规则，助力高水平对外开放。

一、集成电路布图由来

首先，随着集成电路不断发展，其性能不断提升，但传统知识产权无法保护集成电路布图。因集成电路布图无法满足专利权的创造性、著作权的思想或艺术表现形式、商业秘密的秘密性要求等因素，不适合有效保护集成电路布图。

其次，集成电路布图设计是《与贸易相关的知识产权协定》保护对象。集成电路布图设计是TRIPS协议规定的知识产权保护对象之一。为适应我国入世的需要，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，2001年3月28日，国务院第36次常务委员会通过了《集成电路布图设计保护条例》，该条例已于2001年10月1日起施行。

再次，世界各国分别单独立法保护集成电路布图。美国1984年《半导体芯片法》；日本1985年《集成电路布局法》；欧共体1986年《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》；中国台湾1996年《集成电路保护法》；中国2001年《集成电路布图设计保护条例》。

最后，国内已初步完善立法和裁判规则。集成电路布图条例、行政执法办法颁布，集成电路知识普及，集成电路布图侵权案例公开，已对举证责任、鉴定、侵权认定、赔偿范围等形成基本规则。

国家知识产权局官网数据如下，可以看到其登记量在不断上升，对集成电路布图重要性的认识也不断提高，集成电路布图登记越来越受到设计企业的重视。

二、集成电路布图保护现状

（一）通过诉讼主动维权明显增多

如南京通华芯微电子分别起诉了三个公司，钜泉光电科技同样提起过两次诉讼，苏州赛芯电子也曾多次维权。

（二）经典案例入选知识产权十大案例

集成电路布图案件的审判难度大，因此相关法官往往可据此开展研究，早在2010年，华润矽威（上海）有限公司与南京源之峰科技有限公司侵害集成电路布图专有权纠纷案便入选了最高院十大案例，历年来各类集成电路布图案例多次被评为最高院或高级人民法院十大知识产权案例。

（三）诉讼维权主要流程日趋成熟

集成电路布图案件的诉讼流程主要如下：首先，通过公证处或调查公司取证，取证后可能发函也可能直接起诉。实践中大量案件并未起诉或在起诉后撤诉，原因主要有二：一方面在于影响公司形象，另一方面则是通过比对后发现侵权可能性大，因此通过赔偿一定金额从而使之撤诉，减少损失。其次，对发函后不予理睬的当事人，一般会提起诉讼，原告通过初步举证，说明布图的独创性，举证后被告需进行反证，而一般原告初步举证认为有独创性后，被告反证应该说明不具备独创性。对独创性或侵权比对争议比较大的，可以提交第三方鉴定，最后双方辩论，法院作出判决。

三、集成电路布图侵权案件裁判要点

下文将通过分析经典案例，从而明晰近年来集成电路布图纠纷在法院判决中实际裁判要点，供大家参考。

（一）复制他人独创性部分占面积小仍构成侵权

在（2014）沪高民三（知）终字第12号钜泉光电科技（上海）有限公司与深圳锐能微科技有限公司侵害集成电路布图专有权上诉案中，钜泉光电提出10个独创点，经鉴定独创点5、独创点7具有独创性，锐能微认为这2个独创点为辅助功能，并且对整个布图来说，所占面积较少，并且形式上不完全相同，不构成侵权。最终法院判决构成侵权，并应赔偿320万元。

法院认为即使关于两个具体布图设计相同的鉴定结论成立，考虑它们的功能以及该部分布图设计在原、被告芯片整个布图设计中仅占极小面积等因素，该部分布图设计相同或者实质性相似不影响原、被告布图设计不实质性相似的事实。对此原审法院认为，原、被告芯片都属于电能计量芯片，即使它们在整体功能上存在一定差异，它们中的部分具体布图设计也有可能存在相同或者实质性相似。在集成电路布图设计中，任何具有独创性的布图设计的相同或者实质性相似与整个芯片的布图设计相同或者实质性相似是两个概念，不能因原、被告芯片整体布图设计的不相同或者不实质性相似而否定涉案两个具体布图设计相同或者实质性相似的事实。

（二）代理他公司销售产品无法提供产品来源侵权

芯片相对来说多通过代理进行，代理公司也要承担相应风险。在（2019）粤03民初189号珠海市矽旺半导体有限公司与深圳市芯智锐光电科技有限公司、何某侵害集成电路布图专有权纠纷案中，芯智锐光电销售的产品，被鉴定构成侵权，芯智锐光电无法提供侵权产品合法来源。因此，法院判决其构成侵权，赔偿50万元，并承担连带责任，二审维持原判。

关于芯智锐公司是否实施了复制涉案布图设计的侵权行为，原审法院认为，矽旺公司通过公证购买的方式从芯智锐公司处购得X8733芯片，芯智锐公司法定代表人何某不但在微信中自称“自主研发8733.量大私聊，价格优惠，质量稳定”，而且，在与矽旺公司委托代理人洽谈X8733芯片买卖的过程中，芯智锐公司何叶也声称“8733是自己的，5311是代理nst的”。另外，芯智锐公司也没有提交证据证明其所销售X8733芯片有其他来源，法院认定X8733芯片系由芯智锐公司复制并销售。芯智锐公司未经许可复制并销售侵害涉案布图设计专有权产品，构成对涉案布图设计专有权的侵害。

（三）登记图样模糊不清解剖登记样品补救获支持

在（2014）沪高民三（知）终字第12号苏州赛芯电子科技有限公司与深圳裕昇科技有限公司、户某某、黄某某、黄某某侵害集成电路布图专有权上诉案中，苏州赛芯电子登记图样存在部分不清晰，通过解剖留存样品确定不清晰部分，被判权利有效。法院最终判断其构成侵权，赔偿50万元，承担鉴定费16.84万元及连带责任。

法院认为从已经剖片的备案芯片内容与备案的纸质件能看到的内容来看，虽然纸质件存在部分不清晰之处，但两者的格局是相同的，未发现明显差异之处。二审庭审中，鉴定人也明确，两者布图的格局相同，具体布图方式看不清楚，具体到赛芯公司主张的6个独创点，两者在布图设计中所处的位置以及整体的布局基本一致，鉴定机构通过芯片剖析出来的布图设计来确定不清晰的细节内容。由于鉴定人对于《司法鉴定意见书》所记载内容及自己陈述内容进行了详细说明，裕昇公司等所提“模糊不清”“无明显差异”相互矛盾，是由于两个表述所指向的具体内容并不相同，裕昇公司等认为鉴定人当庭陈述与《司法鉴定意见书》矛盾，不能成立。

（四）独创性用原告初步举证、被告反证方式确定

在（2015）苏知民终第00114号南京通华芯微电子有限公司与深圳民展通讯科技、成都启达科技、苏州埃克尔电子、南京瑞亘计算机科技侵害集成电路布图专有权纠纷上诉案中，原告南京通华芯对独创性进行初步举证，被告作为同行，并未能提出反证证据，原告权利有效，被告构成侵权，赔偿210万元。

法院认为独创性的证明标准是该布图设计不是公认的常规设计，属于消极事实，而消极事实本身是无法直接证明的，但可以间接证明，即积极事实的主张者若想否定消极事实主张者的主张，只需简单举出反证即可。如果被诉侵权人不能证明其主张，就要承担对其不利的法律后果。本案中，布图设计专有权人通华芯公司已对其主张的独创性部分的内容进行了详细的陈述，已经完成了初步的举证责任，如果启达公司、民展公司认为通华芯公司主张的独创性内容是公认的常规设计，则其只要能提供在涉案布图设计登记日之前完成的一份相同或者实质相似的常规布图设计即可。民展公司系专业从事集成电路设计及系统集成应用开发的国家级高新技术企业，自身拥有集成电路布图设计登记，也在集成电路领域拥有专利权，拥有自己的研发团队，其对集成电路行业技术发展具有常规了解，具有提交相关常规设计证据的能力，但其仅简单否定，并未提交任何相反证据证明其抗辩主张，故应认定通华芯公司主张其布图设计具有独创性部分的内容成立。

（五）被告无正当理由不配合鉴定承担不利后果

在（2017）粤民终1145号深圳市华彩科技有限公司（被告）与深圳明微电子股份有限公司（原告）侵害集成电路布图专有权纠纷案二审中，深圳市华彩科技不认可原告的主张，在法院指定的期限内无正当理由，不提出鉴定，也不预交鉴定费，法院确定原告的主张独创性成立构成侵权，赔偿50万元。

法院认为分析独创性应当是先由明微公司明确主张权利内容，再由华彩威公司提出不属于独创性抗辩证据，在双方充分对抗的情况下，由法庭进行综合考虑，最终作出独创性判定。本案中，明微公司主张其BS.13500569.8名称为“DMX512AH(88B)”布图设计八个模块和整体布局具有独创性，明微公司指出现有技术的显示数据是串联传输，而明微公司芯片是国内第一款并联驱动的芯片，因此符合独创性的法律特征。华彩科技公司不确认明微公司的主张，但是华彩威公司又拒不提交其抗辩的证据材料，华彩威公司也拒不缴纳鉴定费致使鉴定终结。《最高人民法院关于诉讼证据的若干规定》第二十五条规定了对需要鉴定的事项负有举证责任的当事人，在人民法院指定的期限内无正当理由不提出鉴定申请或者不预交鉴定费用或者拒不提供相关材料，致使对案件争议的事实无法通过鉴定结论予以认定的，应当对该事实承担举证不能的法律后果。据此，一审法院依据民事诉讼的证据规则，确定明微公司主张的独创性成立。

（六）布图设计专有权被撤销后侵权诉讼的处理

在（2021）最高法知民终1313号深圳市天微电子股份有限公司与深圳市鑫天胜科技有限公司、无锡中微爱芯电子有限公司侵害集成电路布图专有权纠纷案中，天微公司布图图设计专有权被撤销，提起行政诉讼过程中，因权利基础状态不确定，被驳回起诉。

法院认为，首先，天微公司以其享有的登记号为BS.095006249的集成电路布图设计专有权向人民法院提起诉讼，但本案一审期间，该集成电路布图设计专有权已被国家知识产权局撤销。尽管天微公司在法律规定期限内就国家知识产权局的行政决定提起诉讼，但其权利基础仍处不确定状态，如该行政决定最终未被生效裁判撤销，则涉案集成电路布图设计专有权将被视为自始不存在，从而丧失起诉的权利基础。其次，天微公司起诉鑫天胜公司、中微爱芯公司侵害其集成电路布图设计专有权，在权利基础状态不确定的情况下，若中止侵权诉讼，该案可能长期处于悬而未决的状态。最后，侵害集成电路布图设计专有权纠纷亦属知识产权纠纷范畴，在涉案集成电路布图设计专有权被撤销的情况下，可参照专利侵权诉讼中专利权被宣告无效后的处理方式，裁定驳回天微公司的起诉。

（七）布图设计仅仅登记二层金属层权利未获保护

在（2013）宁知民初字第42号昂宝电子（上海）有限公司与南京智浦芯联电子科技、深圳市芯联半导体、深圳梓坤嘉科技有限公司侵害集成电路布图专有权纠纷案中，原告昂宝电子提交的布图图样，仅仅提供2层金属层，无确定包含有源元件在内的各种元件与互联线路，无法进行比对，故权利无法保护，因此驳回原告起诉。

法院认为本案原告提交登记的布图设计图样共有两层：图样一Metal-1和图样二Metal-2，该两层均为金属层图样。原告对此亦予以认可。原告在庭审中陈述，其提交的集成电路样品，系一款电流模式控制的反激功率变换器，实际上具有16层光刻图样，申请登记提交的该两层金属层图样可以确定元件之间的连接关系。法院认为，《条例》第二条第（一）、（二）项规定了布图设计的定义，并能依此明确布图设计的内容。本案中，首先应确定本案布图设计的内容，及准确界定布图设计专有权的保护范围，这是认定被诉侵权布图设计是否构成侵权的前提条件。本案中，原告提交的布图设计图样，只有两层金属层图样，并未涉及除金属连线之外的半导体元件及有源元件，依据该两金属层图样无法明确其布图设计中具体的有源元件及其数量以及位置关系等信息，因而无法确定包含有源元件在内的各种元件与互连线路的具体内容。在布图设计的内容无法确定的前提下，原告主张权利的布图设计并不能确定，因而也无法确定该布图设计专有权的保护范围。因此，本案中，原告提交的基于其享有专有权的布图设计证据不完整，法院无法将被控侵权的布图设计与之进行侵权对比。故原告指控被告侵害其布图设计专有权，没有事实根据，法院最终不予支持。

（八）合作方未对布图设计作出实质贡献不享有权利

在（2017）苏05知民初1168号南京日新科技有限公司与无锡新硅微电子有限公司集成电路布图权属纠纷案中，日新公司主要参与了产品研发的参数规格制定，电路设计和产品测试三个环节，主张权利未获支持，因此法院驳回原告起诉。

法院认为本案中日新公司未能清晰阐明涉案布图设计独创性部分内容，事实上其也并未主张和举证实际参与了涉案布图设计的创作。日新公司的主张是，其参与了芯片产品研发的参数规格制定、电路设计和产品测试三个环节，故享有涉案布图设计专有权，法院认为该主张无事实和法律依据。另一方面，本案中新硅公司提交了其内部关于涉案布图设计完整的项目档案，新硅公司自身也具有较强的布图设计能力。综合在案证据，法院认为涉案布图设计系新硅公司独自设计完成，不能认定日新公司对该权利客体的形成作出实质性贡献。

四、案例分析总结

通过以上案例分析，可以得出以下启示：首先，企业在完成产品设计后，要及时进行集成电路布图专有权登记，同时尽可能提供样品备查。其次，研发人员必须对知识产权管理人员提交资料进行审核，确认登记资料完整性。再次，研发部门需对研发过程文件妥善保管，对创新思路、解决技术难题留痕，以备必要时举证独创性。最后，合作开发产品时，事先必须对布图专用权属进行约定，以免产品开发完成后发生权属争议，自身对产品作出的贡献无法获得承认。

作者：王为明

编辑：Eleven